教育：
1996年09月----2000年06月， 长春光学精密机械学院，理学分院，光电子技术专业，工学学士
2000年09月----2003年04月，长春理工大学，高功率半导体激光国防科技（国家）重点实验室，光学工程专业，工学硕士
2004年9月----201年04月，长春理工大学，理学院，物理电子学专业，工学博士
工作：
2000年07月----2004年01月，长春理工大学，理学院，助教
2004年01月---2012年09月，长春理工大学，理学院，讲师
2012年09月---2018年08月，长春理工大学，理学院，副教授
2018年09月----至今，长春理工大学，物理学院，教授

承担课程：
本科生《微电子学概论》，《集成电路工艺原理》，研究生《半导体微细加工原理与技术》
创新指导：大学生创新创业训练计划，互联网+竞赛，挑战杯等指导教师

学术论文：

1.Qi Chen; Guozheng Wang*; ;Ji Wang; Jikai Yang; Qingduo Duanmu. Electrolyte diffusion model in macroporous silicon photo-electrochemical etching and its application in macropore diameter control. Journal of Applied physics,124(085709)1-6,2018

2.王国政; 袁云龙; 杨超; 凌海容; 王蓟; 杨继凯; 李野 ;端木庆铎. 硅微通道板微加工技术研究. 兵工学报, 39（9）：1804-1810，2018

3.Wang Guozheng; Chen Li; Qin Xulei; Wang Ji;  Wang Yang; Fu Shencheng; Duanmu Qingduo. Influence of etching current density on the morphology of macroporous silicon arrays by photo-electrochemical etching. Journal of Semiconductors, 31(7):074011-4, 2010

授权发明专利：

1.光辅助电化学腐蚀方法加工n型硅微通道阵列用腐蚀液，2011-9-7，专利号：ZL201010141527.8，排名：1/3

2.用于硅微通道板基体整体氧化防变形约束装置, 专利号：ZL 201810076698.3, 2019-6-18, 排名：1/5

3.一种双包层光纤的包层模式滤除装置, 2020-8-4,专利号：ZL201811145120.5, 排名： 2/2