主要科研工作成果：

主持或参与的科研项目：

(1) 吉林省科技厅, 吉林省自然科学基金（稳定支持项目）, EUV光刻掩模中多层膜缺陷检测技术的研究，2023-01 至 2025-12, 20万元, 在研, 主持；

(2) 吉林省教育厅, 基础研究, Au/TiO2纳米粒子体系中热电子转移过程的超快光电子显微研究，2023-01 至 2024-12, 2.5万元, 在研, 主持；

(3)国家自然科学基金委员会, 联合基金项目, EUV光刻掩模缺陷检测与补偿技术的研究，2023-01-01 至 2026-12-31, 250万元, 在研, 参与；

(4) 吉林省科学技术厅, 吉林省科技发展计划项目—重点研发, 基于光电子显微法的极紫外光刻掩模白板缺陷检测技术，2020-01 至 2022-12, 50万元, 结题, 参与;

(5) 吉林省科学技术厅, 吉林省科技发展计划-国际科技合作项目, 高端芯片制造中反射式光刻掩模缺陷识别与补偿技术研究，2021-01 至 2023-12, 15万元, 结题, 参与；

(6) 重庆市科学技术局, 面上项目, 极紫外光刻掩模白板缺陷的光电子显微成像检测技术，2023-07 至 2026-06, 10万元, 在研, 参与。

学术论文：

1. Li,Jiawei;Li,Bochao^*; Zhao,Zhenlong; Xie,Zhuo; Song,Xiaowei; Lin,Jingquan^*; Three-dimensional characterization of EUV mask blank defects with photoemission electron microscopy assisted by neural network transfer learning, Applied Optics, 2025, 64(6): 1376-1387

2. Li, Bochao; Li, Hao; Yang, Chang; Ji, Boyu; Lin, Jingquan*; Tomie, Toshihisa*; Theory of multiphoton photoemission disclosing excited states in conduction band of individual TiO2 nanoparticles, Chin. Phys. B,30 (11), 114214, 2021

3. Li, Bochao; Li, Hao; Yang, Chang; Ji, Boyu; Lin, Jingquan*; Tomie, Toshihisa*; Picosecond Lifetime Hot Electrons in TiO2 Nanoparticles for High Catalytic Activity. Catalysts, 10(8), 916, 2020

4. Li, Bochao; Li, Hao; Yang, Chang; Ji, Boyu; Lin, Jingquan*; Tomie, Toshihisa*; Excited states in the conduction band and long-lifetime hot electrons in TiO2 nanoparticles observed with photoemission electron microscopy. AIP Advances, 9(8), 085321, 2019

5. Li, Bochao; Yang, Chang; Li, Hao; Ji, Boyu; Lin,Jingquan*; Tomie, Toshihisa*;.Thermionic emission in gold nanoparticles under femtosecond laser irradiation observed with photoemission electron microscopy. AIP Advances, 9(2), 025112, 2019

专利申请：

1.李博超，林景全，李嘉伟，宋晓伟，用于极紫外光刻掩模白板的缺陷检测方法，申请号:202411112659.6

2. 林景全,李嘉伟, 李博超，赵振龙等,一种基于光电子图像的极紫外光刻掩模缺陷检测方法，申请号:202411492721.9

3. 宋晓伟,张瀚之,林景全,李博超,极紫外光刻掩模缺陷的补偿方法，申请号:202410368567.8

4. 谢卓,林景全,王少康,窦银萍,李博超,一种极紫外光产生装置及方法，申请号:202411468175.5